岩豆凝集素分子中色氨酸残基的化学修饰及其荧光光谱研究

• 作者: 于源 吴洽庆 周红 张仁怀 牟航 鲍锦库
• 来源期刊: 应用与环境生物学报
• 学科: 生物学
• 关键词: 岩豆 凝集素 色氨酸残基 化学修饰 荧光光谱 糖蛋白
• 年，卷（期）: 2000,（4）
• 页码范围: 317-320
• 页数: 4页
• 分类号: Q94
• 字数: 3224字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1006-687X.2000.04.005

摘要

从岩豆(Millettia dielsiana Harms ex Diels)种子中分离纯化得到的岩豆凝集素(简称MDL)经链霉蛋白酶水解,测得其分子中含有4个色氨酸(Trp)残基.用N-溴代丁二酰亚胺(NBS)对 MDL分子中的色氨酸残基进行化学修饰,在无变性剂存在下有3.6个Trp残基被修饰,在变性条件下可修饰3.8个Trp残基.修饰后MDL活性均丧失,且甘露糖对MDL活性具有保护作用.表明Trp残基是MDL凝集活性所必需的基团,且位于MDL糖结合部位.同时采用荧光光谱实验发现,随着NBS的加入,MDL荧光强度不断减弱,但发射谱形状和最大发射波长无大的变化,提示Trp残基可能位于MDL分子表面的疏水区内.图3 参8

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	鲍锦库	四川大学生命科学学院	48	236	8.0	13.0
2	周红	四川大学生命科学学院	20	63	5.0	7.0
3	吴洽庆	中国科学院成都生物研究所	14	63	4.0	7.0
4	牟航	四川大学生命科学学院	1	5	1.0	1.0
5	于源	中国科学院成都生物研究所	6	20	4.0	4.0
6	张仁怀	中国科学院成都生物研究所	1	5	1.0	1.0