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摘要:
对掩模,硅片同轴对准系统中影响对准精度的诸因素进行了理论分析,阐述了误差形成机理及相应的对策,以理论分析指导精度实验取得了±0.06μm(3σ)对准精度.
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文献信息
篇名 光栅衍射式同轴对准系统中影响对准精度的因素分析
来源期刊 微细加工技术 学科 工学
关键词 对准系统 精度 因素
年,卷(期) 2000,(1) 所属期刊栏目 光子束技术
研究方向 页码范围 45-50
页数 6页 分类号 TN305.7
字数 3163字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 胡松 中国科学院光电技术研究所 93 705 12.0 24.0
2 刘业异 中国科学院光电技术研究所 13 173 7.0 13.0
3 陈伟明 中国科学院光电技术研究所 4 96 3.0 4.0
4 郭黎 中国科学院光电技术研究所 1 2 1.0 1.0
5 郭京平 中国科学院光电技术研究所 1 2 1.0 1.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
对准系统
精度
因素
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微细加工技术
双月刊
1003-8213
43-1140/TN
大16开
湖南省长沙市
1983
chi
出版文献量(篇)
672
总下载数(次)
2
总被引数(次)
4940
论文1v1指导