超纯水制造装置

• 作者: 张金汇
• 来源期刊: 印制电路资讯
• 学科: 工学
• 关键词: 下限值 半导体行业 发展 项目 技术 生产 指标 超纯水 超大规模集成电路 集成度
• 年，卷（期）: 2000,（2）
• 页码范围: 61-66
• 页数: 6页
• 分类号: TN47

摘要

由于超大规模集成电路的飞速发展，使超纯水水质要求不断提高。并提出了一些新的项目要求。半导体行业目前是处在64M位时代，不久即将进入256M位的新时代，集成度每前进一步，杂质要求减少到原有标准的1／2～1／10(大约)。水质要求值和水质评价技术的发展，不能超越实际，更不能提出不切实际的苛刻要求，水质分析应以生产要求的下限值做为对保证水质的标准。对水中杂质的存在和对器件影响，以及彼此之间的因果关系不清楚的情况下盲目制定降低杂质指标是不可取的。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张金汇		1	0	0.0	0.0