用灰阶编码掩模进行邻近效应校正的实验研究

• 作者: 崔铮 张怡霄 杜惊雷 粟敬钦 郭永康
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 灰阶编码掩模 光学邻近效应校正 亚微米光刻
• 年，卷（期）: 2000,（2）
• 所属期刊栏目: 光子束技术
• 页码范围: 39-44
• 页数: 6页
• 分类号: TN205
• 字数: 2646字
• 语种: 中文

摘要

利用灰阶编码掩模实现光学邻近效应精细校正是改善光刻图形质量的有效方法,设计并利用电子束直写系统加工了用于实现邻近效应校正的灰阶编码掩模,首次在投影光刻系统上用这一方法实现了光学邻近效应校正,获得了满意的实验结果,在可加工0.7微米的I线曝光装置上获得了经邻近效应校正的0.5微米光刻线条.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭永康	四川大学物理系	87	836	16.0	21.0
2	杜惊雷	四川大学物理系	77	611	13.0	18.0
3	张怡霄	四川大学物理系	27	205	9.0	12.0
4	粟敬钦	四川大学物理系	13	153	7.0	12.0
5	崔铮	英国卢瑟福国家实验室微结构中心	8	189	5.0	8.0