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摘要:
基于等效媒质理论,对周期性浮雕结构的抗反射特性进行了分析和研究.给出了二维对称的抗反射浮雕结构等效光学参数的估算方法.提出了基于最小特征尺寸考虑的脊基和隙空的设计概念.利用离子束刻蚀工艺技术,在Si片上制备了一种两维红外抗反射浮雕图案.测试结果表明,这种表面结构像单层抗反射膜一样,具有很好的增透效果,表面结构的等效折射率相当于镀层材料折射率,而刻蚀深度则相当于镀层的1/4波长厚度.
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内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 亚波长浮雕结构的红外抗反射研究
来源期刊 红外与毫米波学报 学科 工学
关键词 抗反射 亚波长结构 二元光学
年,卷(期) 2000,(6) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 471-474
页数 4页 分类号 TN2
字数 2905字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1001-9014.2000.06.016
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 易新建 华中理工大学光电子工程系 20 146 7.0 11.0
2 陈思乡 华中理工大学光电子工程系 6 41 3.0 6.0
3 陈四海 华中理工大学光电子工程系 3 27 2.0 3.0
4 曾延安 华中理工大学光电子工程系 1 15 1.0 1.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
抗反射
亚波长结构
二元光学
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
红外与毫米波学报
双月刊
1001-9014
31-1577/TN
大16开
上海市玉田路500号
4-335
1982
chi
出版文献量(篇)
2620
总下载数(次)
3
总被引数(次)
28003
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