硬盘磁记录介质的现状与发展

• 作者: 王可 王翔 蔡长波
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 硬盘 磁记录介质 记录面密度 薄膜 溅射
• 年，卷（期）: 2000,（11）
• 所属期刊栏目: 材料综述
• 页码范围: 35-37
• 页数: 3页
• 分类号: TQ59
• 字数: 2775字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2000.11.014

摘要

讨论了现有介质、新介质的材料与结构,以及其工艺技术的现状.并展望了高密度硬盘磁记录介质的未来.指出高密度、高信噪比S/N的硬盘介质要求有高的矫顽力和小的磁记录畴.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王可	华中理工大学电子科学与技术系	6	14	3.0	3.0
2	蔡长波	华中理工大学电子科学与技术系	3	14	2.0	3.0
3	王翔	华中理工大学电子科学与技术系	4	14	2.0	3.0