60Coγ射线辐照对PTMPS--DPS共聚物形态结构及性能的影响

• 作者: 刘飚 史宇正 张志平 方斌 王庚超
• 来源期刊: 辐射研究与辐射工艺学报
• 学科: 化学
• 关键词: 聚硅氧烷 60Coγ射线辐照 形态结构 力学性能亚麻油 氧化预聚 电子束固化 剂量 涂膜性能
• 年，卷（期）: 2000,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 241-245
• 页数: 5页
• 分类号: TL1|O634.4
• 字数: 2755字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-3436.2000.04.001

摘要

采用两种催化体系制备了聚四甲基苯撑硅氧烷--二苯基硅氧烷(PTMPS--DPS)共聚物.用凝胶色谱分析、广角X光衍射分析、示差扫描量热分析(GPC、WAXD、DSC)等方法研究了60Coγ射线辐照对PTMPS--DPS共聚物形态结构及力学性能的影响.结果表明,经过8.5 105Gy大剂量辐照后,PTMPS--DPS共聚物的平均分子量、结晶度、拉伸强度及断裂伸长率等变化不大.使用非平衡催化体系可以进一步提高PTMPS--DPS共聚物的耐辐照性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	方斌	华东理工大学材料研究所	21	96	6.0	9.0
2	王庚超	华东理工大学材料研究所	31	304	10.0	17.0
3	史宇正	华东理工大学材料研究所	2	15	2.0	2.0
4	张志平	华东理工大学材料研究所	14	105	8.0	10.0
5	刘飚	华东理工大学材料研究所	1	8	1.0	1.0