若干有机非线性光学材料的分子设计及三阶非线性光学性质的理论研究

• 作者: 付伟 任爱民 孙秀云 封继康 沈玉全 王江洪 金宏威
• 来源期刊: 结构化学
• 关键词: 三阶非线性光学系数 有机非线性光学材料 分子设计 理论研究
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 页码范围: 57-63
• 页数: 5页
• 字数: 2164字
• 语种: 英文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-5861.2000.01.013

摘要

以INDO/SCI方法为基础,利用完全态求和(SOS)公式,计算了若干有机非线性光学材料分子的三阶非线性光学系数γ(-w;w,-w,w)和γ(0;0,0,O),研究了γ与分子骨架、给电子取代基、噻吩环数目即:共轭分子链长的关系.设计了较大γ的新型非线性光学材料分子.