Mo2C膜表面高度和高差分布规律研究

• 作者: 冉扬强 平荣刚 李声泽 李声泽 李声泽 李声泽 郑瑞伦
• 来源期刊: 化学物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Mo2C功能膜 高度和高差分布 计算机模拟
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 页码范围: 77-83
• 页数: 7页
• 分类号: O484.5
• 字数: 2951字
• 语种: 英文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-0068.2000.01.014

摘要

介绍了金属有机气相沉积（MOCVD）制备Mo2C功能膜的过程和对膜表面粗糙度的测量结果；在测量基础上进行统计，找出Mo2C膜表面高度和高差分布规律；将DT2模型推广，进行2+1维计算机模拟，作出Mo2C膜表面3维模拟图·结果表明：实验测得的高度和高差统计分布与计算机模拟的结果一致。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑瑞伦	西南师范大学物理系	46	181	8.0	10.0
2	冉扬强	西南师范大学物理系	8	13	3.0	3.0
3	平荣刚	西南师范大学物理系	3	7	2.0	2.0
4	李声泽 李声泽 李声泽 李声泽	西南师范大学高新材料所	1	3	1.0	1.0