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利用甲烷—硅烷高能离子束的非晶SixC1—x薄膜的生长
利用甲烷—硅烷高能离子束的非晶SixC1—x薄膜的生长
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摘要：
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高能束在气相沉积超硬薄膜材料中的应用
高能束
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薄膜
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
| 篇名 | 利用甲烷—硅烷高能离子束的非晶SixC1—x薄膜的生长 | ||
| 来源期刊 | 等离子体应用技术快报 | 学科 | 物理学 |
| 关键词 | 硅晶片 非晶碳薄膜 离子束沉积 甲烷-硅烷高能离子束 非晶SixC1-x薄膜 生长 | ||
| 年，卷（期） | dlztyyjskb_2000,（12） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 17-19 | |
| 页数 | 3页 | 分类号 | O484.1 |
| 字数 | 语种 | ||
| DOI | |||
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研究主题发展历程
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硅晶片
非晶碳薄膜
离子束沉积
甲烷-硅烷高能离子束
非晶SixC1-x薄膜
生长
研究起点
研究来源
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
等离子体应用技术快报
主办单位：
核工业西南物理研究院
出版周期：
月刊
ISSN：
CN：
开本：
出版地：
四川省成都市432信箱
邮发代号：
创刊时间：
语种：
出版文献量（篇）
864
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