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物理气相沉积TiN涂层的研究现状与展望
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等离子物理气相沉积(PS-PVD)
热障涂层
工艺
沉积机理
高离化率物理气相沉积涂层的研究进展
高离化率物理气相沉积
膜基结合力
涂层特性
硬质涂层
峰值功率
离子能量
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 物理气相沉积TiN复合涂层研究进展
来源期刊 材料科学与工程 学科
关键词
年,卷(期) 2000,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 110
页数 1页 分类号
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1673-2812.2000.02.027
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
材料科学与工程学报
双月刊
1673-2812
33-1307/T
大16开
浙江杭州浙大路38号浙江大学材料系
1983
chi
出版文献量(篇)
4378
总下载数(次)
9
总被引数(次)
42484
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