热处理条件对热蒸镀WO3薄膜结构的影响

• 作者: 刘祖黎 姚凯伦 方国家 王豫
• 来源期刊: 华中理工大学学报(自然科学版)
• 学科: 物理学
• 关键词: WO3薄膜 热蒸发 热处理条件 结构
• 年，卷（期）: 2000,（9）
• 页码范围: 110-112
• 页数: 3页
• 分类号: O484
• 字数: 2000字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1671-4512.2000.09.038

摘要

采用高真空热蒸发沉积技术在硅单晶Si(111)衬底上沉积了WO3薄膜.借助化学刻蚀,SEM,XRD和Raman光谱分析等手段,研究了不同的热处理条件(大气环境,真空,不同气氛)对WO3薄膜结构的影响.结果表明,在真空条件下或干燥Ar气氛条件下对薄膜进行退火热处理有利于控制薄膜晶粒的生长(保持薄膜良好的电致变色性能),同时有利于增强薄膜的稳定性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘祖黎	华中理工大学物理系	11	171	6.0	11.0
2	姚凯伦	华中理工大学物理系	10	281	7.0	10.0
3	方国家	华中理工大学激光技术国家重点实验室	1	16	1.0	1.0
4	王豫	华中理工大学物理系	2	123	2.0	2.0