DMF中电沉积制备Yb-Co合金膜

• 作者: 徐红 苟劲 谷历文
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 共沉积 恒电位 恒电流 脉冲 Yb-Co合金膜
• 年，卷（期）: 2000,（11）
• 所属期刊栏目: 电（浸）镀技术
• 页码范围: 13-14
• 页数: 2页
• 分类号: TQ153.2
• 字数: 1981字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1560.2000.11.006

摘要

研究了于室温下含有少量水的YbCl3-CoCl2-DMF溶液中电沉积制备Yb-Co合金膜。EDAX和XRD分析表明：在0．10 mol／L YbCl3-0．10 mol／L CoCl2的DMF电镀液中，以控制电位为-2．75V(SCE)进行恒电位电解，以控制电流密度为100A／m2进行恒电流电解或以控制脉冲电流密度为150A／m2进行脉冲电解，可以得到不同形态和Yb含量的共沉积合金膜，且膜层光滑、附着力强。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	苟劲	重庆师范学院化学系	15	164	7.0	12.0
2	徐红	重庆师范学院化学系	15	83	5.0	8.0
3	谷历文	广东省东莞市技术监督局质检所	6	37	4.0	6.0