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摘要:
本文叙述了光成像抗蚀抗电镀油墨近几年来在不同领域的扩大应用和在使用中,对光源的选择、如何进行合理曝光、在曝光中相关工序的影响及光源和设备的发展前景。
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研究进展
黔中地区
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 浅谈光成像抗蚀抗电镀油墨(湿膜)的曝光
来源期刊 印制电路与贴装 学科 工学
关键词 湿膜 曝光 光成像抗蚀抗电镀油墨 印刷电路板
年,卷(期) 2001,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 24-29
页数 6页 分类号 TN410.57
字数 语种
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李春甫 19 12 2.0 3.0
2 邵磊 3 2 1.0 1.0
传播情况
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引文网络
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二级参考文献  (0)
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2001(0)
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研究主题发展历程
节点文献
湿膜
曝光
光成像抗蚀抗电镀油墨
印刷电路板
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
印制电路资讯
双月刊
2070-8467
广东省深圳市南山区南山大道1088号南园
出版文献量(篇)
7384
总下载数(次)
15
总被引数(次)
0
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