制备超薄多层膜的自动转速控厚法

• 作者: 冯仕猛 易葵 汤兆胜 祝国龙 范正修 邵建达
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 超薄多层膜 膜厚精度 小角X射线衍射
• 年，卷（期）: 2001,（11）
• 所属期刊栏目: 光学薄膜
• 页码范围: 1027-1031
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1
• 字数: 4523字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2001.11.019

摘要

在转速控厚法的基础上,排除了射频溅射的电磁干扰,实现了自动转速控厚法.用这种方法镀制超薄多层膜时,可以实时记录下镀制每层膜的沉积时间、自动切换转速、完成设定周期后自动停止转动.自动转速控厚法与转速控厚法相比,明显降低了多层膜制备的劳动强度,提高了多层膜制备的成品率和监控精度.而且将在镀制复杂膜系多层膜时,具有更加明显的优势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光机所	212	2131	21.0	29.0
2	易葵	中国科学院上海光机所	67	518	14.0	18.0
3	范正修	中国科学院上海光机所	203	2312	23.0	32.0
4	汤兆胜	中国科学院上海光机所	20	201	7.0	14.0
5	冯仕猛	中国科学院上海光机所	6	25	3.0	5.0
6	祝国龙	中国科学院上海光机所	2	9	2.0	2.0