α-Ni(OH)2稳定性的研究

• 作者: 丛文博 吴丹 孙巍 张宝宏 李晓峰 林秀峰
• 来源期刊: 哈尔滨工程大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: α-Ni(OH)2 稳定性 镍电极
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 页码范围: 81-83
• 页数: 3页
• 分类号: TM912
• 字数: 2142字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7043.2001.04.022

摘要

为了得到稳定化的α-Ni(OH)2,使用X衍射法对添加Al或Co的α-Ni(OH)2的化学稳定性和电化学稳定性进行了研究.实验表明,α-Ni(OH)2中Al,Co摩尔百分含量为15%时,晶型不稳定.含Co 20%的α-Ni(OH)2化学稳定性可达3个月;含Al*!20%的α-Ni(OH)2具有较好的化学稳定性和电化学稳定性.在7M的KOH中最少可稳定6个月,充放电100次晶型不改变,并且容量稳定.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张宝宏	哈尔滨工程大学化学工程系	74	1085	17.0	29.0
2	丛文博	哈尔滨工程大学化学工程系	19	196	9.0	13.0
3	吴丹	哈尔滨工程大学化学工程系	25	121	8.0	10.0
4	孙巍	哈尔滨工程大学化学工程系	17	126	6.0	11.0
5	李晓峰	哈尔滨工程大学化学工程系	10	39	2.0	6.0
6	林秀峰	哈尔滨工程大学化学工程系	2	1	1.0	1.0