pH值对电沉积法制备Ni-P非晶态合金镀层热稳定性的影响

• 作者: 史鸿运 张云黔 王健 董俊 邓洁
• 来源期刊: 贵州大学学报(自然科学版)
• 学科: 物理学
• 关键词: N Ni-P非晶态合金,电沉积,晶化动力学,热稳定性,DSC
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 所属期刊栏目: 专题研究
• 页码范围: 186-189
• 页数: 4页
• 分类号: O795
• 字数: 1769字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-5269.2001.03.006

摘要

本文研究了用不同pH值的镀液进行电沉积时制备的Ni-P非晶态镀层,其镀层中磷的含量随pH值的增大而减小.用差示扫描量热法(DSC)对各非晶态Ni-P镀层进行动力学分析,其晶化活化能数据表明,pH=6.50条件下制备的镀层较为稳定,它们的晶化机理可能为Avrami-Erofeev方程的核生成和核生长(n=1).动力学方程为:dx/dt=Ae-E/RT(1-α)

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董俊	贵州大学化学系	26	171	8.0	12.0
2	张云黔	贵州大学化学系	38	257	10.0	14.0
3	王健	贵州大学化学系	23	114	5.0	10.0
4	史鸿运	贵州大学化学系	13	70	6.0	8.0
5	邓洁	贵州大学化学系	12	60	4.0	7.0