浅电子陷阱技术

• 作者: 刘徐红
• 来源期刊: 信息记录材料
• 学科: 工学
• 关键词: 浅电子陷阱掺杂剂感光度照相乳剂制备
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 页码范围: 36-41
• 页数: 6页
• 分类号: TQ57
• 字数: 7109字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-5624.2001.01.008

摘要

浅电子陷阱技术是掺杂技术的一个分支，近年来有关它的研究和应用又开始受到人们的重视。本文简单介绍了照相乳剂颗粒中浅电子陷阱的形成及原理，并对可形成浅电子陷阱的掺杂剂的类型及其在卤化银乳剂颗粒中掺杂的部位、使用量和所起的作用进行了初步的分析。在卤化银乳剂制备过程中使用浅电子陷阱剂可有效地提高照相感光度。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘徐红		2	12	1.0	2.0