ZnS头罩增透保护膜系制备

• 作者: 于忠奇 刘正堂 宋建全 耿东生 郑修麟
• 来源期刊: 红外与毫米波学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnS头罩 射频磁控溅射 厚度均匀性 红外光学性能 模拟
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 页码范围: 203-206
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2691字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9014.2001.03.010

摘要

利用计算机对不同运动轨迹下ZnS头罩外表面膜厚分布进行了模拟,优化出头罩的最佳运动轨迹,在该轨轨迹下采用射频磁控反应溅射(RRFS)法进行头罩镀膜,能够得到满足使用要求的薄膜厚度均匀性.实验结果表明,头罩外表面薄膜厚度不均匀性小于10%，双面镀膜后,8～11.5μm波段平均透过率从69.6%提高到87.2%以上,透过率的不均匀性小于1.2%,满足了红外应用中对ZnS头罩的要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑修麟	西北工业大学材料科学与工程学院	44	293	10.0	14.0
2	刘正堂	西北工业大学材料科学与工程学院	120	749	14.0	21.0
3	耿东生	西北工业大学材料科学与工程学院	15	150	8.0	12.0
4	宋建全	西北工业大学材料科学与工程学院	10	92	5.0	9.0
5	于忠奇	西北工业大学材料科学与工程学院	5	50	3.0	5.0