Ti/ZrN2/Al薄膜界面扩散反应的研究

• 作者: 姚文清 嵇世山 曹立礼 朱永法 殷木省 王莉
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 界面扩散 ZrN2 俄歇电子能谱 线形分析
• 年，卷（期）: 2001,（7）
• 所属期刊栏目: 研究与应用
• 页码范围: 36-39
• 页数: 4页
• 分类号: TB383
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2001.07.010

摘要

利用直流磁控反应溅射法在Al基底上制备了ZrN2及Ti多层薄膜。利用扫描俄歇微探针的深度剖析和线形分析技术研究了真空热处理对Ti/ZrN2/Al样品膜层之间的界面化学状态和相互作用的影响。研究结果表明，真空热处理使Ti/ZrN2/Al薄膜界面上发生了明显的界面扩散和化学反应，生成了TiNx物种，并且薄膜内层发生了严重的氧化反应。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱永法	清华大学化学系	72	1238	21.0	33.0
2	殷木省	清华大学化学系	4	17	2.0	4.0
3	王莉	清华大学化学系	91	815	15.0	24.0
4	姚文清	清华大学化学系	32	302	9.0	16.0
5	嵇世山	清华大学化学系	7	51	4.0	7.0
6	曹立礼	清华大学化学系	24	444	10.0	21.0