飞行时间质谱法研究Si(CH3)4分子的多光子解离和电离过程

• 作者: 刘玉芳 施德恒
• 来源期刊: 激光杂志
• 学科: 工学
• 关键词: 飞行时间质谱 四甲基硅 多光子解离电离 反应动力学 多光子电离机理
• 年，卷（期）: 2001,（6）
• 所属期刊栏目: 激光物理
• 页码范围: 42-44
• 页数: 3页
• 分类号: TN2
• 字数: 2698字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0253-2743.2001.06.015

摘要

采用超声分子束技术,以飞行时间(TOF)质谱仪,于410～371nm内,在不同能量的激光作用下,着重检测了气相Si(CH3)4分子在15个波长点处的多光子电离(MPI)TOF质谱分布.根据实验结果,讨论了Si(CH3)4可能的MPI机理.得到了Si+主要来自于母体分子及中性碎片的多光子解离-硅原子的共振电离、Si(CH3)+n(n=1,2,3)主要来自于中性碎片Si(CH3)n(n=1,2,3)的自电离、而Si(CH3)+4则来自于母体分子的(3+1)电离的结论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	施德恒	空军第一航空学院基础部	74	593	15.0	21.0
2	刘玉芳	河南师范大学物理系	156	576	11.0	17.0