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摘要:
【正】 数字微反射镜装置的分析与设计(见0110825)0810 半导体物理Y2000-62525-429 0109509等离子体浸渍注入形成的超浅结电特性=Electricalcharacterization of Ultra-shallow junctions formed byplasma immersion implantation[会,英]/Yang,B.&Wong,H.//2000 IEEE Proceedings of 22nd Interna-tional Conference on Microelectronics.Vol.2.—429~432(EC)介绍了应用等离子体浸渍注入砷离子,制备超浅n~+p 结(~90nm)及其电特性。测量了温度在100~450K 范围内的正向和反向电流电压特性。对所有样品.IV 关系遵从下列规律:I∝V~m,m=3,在不同温度下 m 保持不变。参8
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文献信息
篇名 半导体与微电子技术
来源期刊 电子科技文摘 学科 工学
关键词 微电子技术 电特性 集成电路 等离子体 半导体物理 嵌入式系统 文章 分析与设计 会议录 设计技术
年,卷(期) 2001,(6) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 23-31
页数 9页 分类号 TN
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电子科技文摘
月刊
1009-0851
11-4388/TN
16开
1999
chi
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10413
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71
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