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Nb5+/Ti4+离子对O3气敏元件的性能改善
Nb5+/Ti4+离子对O3气敏元件的性能改善
作者:
唐世洪
张勇华
曾庆立
梁平原
谭子尤
邓永和
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
掺杂离子
03气敏元件
影响
摘要:
在W03中掺入Nb5+、Ti4+杂质离子,制成傍热式厚膜元件,结合开溢脱附(TPD)和半导体分析,研究了掺杂离子对元件性能的影响.
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内容分析
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关键词热度
相关文献总数
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(/年)
文献信息
篇名
Nb5+/Ti4+离子对O3气敏元件的性能改善
来源期刊
微纳电子技术
学科
工学
关键词
掺杂离子
03气敏元件
影响
年,卷(期)
2002,(5)
所属期刊栏目
MEMS器件与技术
研究方向
页码范围
31-33
页数
3页
分类号
TP212
字数
1918字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1671-4776.2002.05.007
五维指标
传播情况
被引次数趋势
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引文网络
二级参考文献
(0)
共引文献
(0)
参考文献
(1)
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(0)
二级引证文献
(0)
1988(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2002(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
掺杂离子
03气敏元件
影响
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微纳电子技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1671-4776
CN:
13-1314/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄市179信箱46分箱
邮发代号:
18-60
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
3266
总下载数(次)
22
总被引数(次)
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