电子束缩小投影曝光系统的掩模研究

• 作者: 刘明 叶甜春 吴桂君 张福安 彭开武 杨清华 陈大鹏 顾文琪
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 掩模 电子束投影曝光 透射率 反差
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 电子束技术
• 页码范围: 12-16,22
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2571字
• 语种: 中文

摘要

介绍了用于电子束投影曝光系统中薄膜加散射体掩模的制备、性能和使用情况.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	彭开武	中科院电工所	4	4	1.0	1.0
2	张福安	中科院电工所	3	2	1.0	1.0
3	顾文琪	中科院电工所	4	2	1.0	1.0
4	陈大鹏	中科院微电子中心	13	126	6.0	11.0
5	杨清华	中科院微电子中心	2	6	1.0	2.0
6	叶甜春	中科院微电子中心	14	91	5.0	9.0
7	刘明	中科院微电子中心	3	12	1.0	3.0
8	吴桂君	中科院电工所	2	1	1.0	1.0