光学和电子束曝光系统之间的匹配与混合光刻技术

• 作者: 任黎明 刘明 刘珠明 张立辉 徐秋霞 李金儒 杨清华 汤跃科 牛洁斌 王德强 胡勇 薛丽君 赵珉 陆晶 陈宝钦 龙世兵
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 微光刻技术 微纳米加工技术 电子束直写 匹配与混合光刻技术
• 年，卷（期）: 2006,（z1）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 1-6
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.6
• 字数: 5288字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2006.z1.001

摘要

介绍如何实现光学和电子束曝光系统之间的匹配和混合光刻的技术,包括:(1)光学曝光系统与电子束曝光系统的匹配技术;(2)投影光刻和JBX-5000LS混合曝光技术;(3)接触式光刻机和JBX-5000LS混合曝光技术;(4)大小束流混合曝光技术或大小光阑混合曝光技术;(5)电子束与光学曝光系统混合光刻对准标记制作技术.该技术已成功地应用于纳米器件和集成电路的研制工作,实现了20nm线条曝光,研制成功了27n m CMOS器件;进行了50nm单电子器件的演试;并广泛地用于100nm化合物器件和其他微/纳米结构的制造.