氮化硅/铝扩散连接结构的界面断裂特征

• 作者: 徐礼德 王立君 贾燕 阎俊霞
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 工学
• 关键词: Si3N4/Al界面 扩散连接 界面断裂
• 年，卷（期）: 2002,（5）
• 所属期刊栏目: 研究工作快报
• 页码范围: 29-32
• 页数: 4页
• 分类号: TQ174
• 字数: 1583字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1625.2002.05.007

摘要

在真空不低于1.5×10-3Pa,温度为600℃,压强为30MPa,保温2h的条件下进行了Si3N4/Al的扩散连接.微观分析表明,连接的Si3N4/Al的界面两侧存在Si和Al原子有限的相互扩散.界面断裂力学实验证实,Si3N4/Al连接界面的断裂机制为脆性剥离.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王立君	天津大学材料学院	38	253	10.0	14.0
2	徐礼德	天津大学材料学院	4	16	2.0	4.0
3	阎俊霞	河北科技大学材料学院	4	38	2.0	4.0
4	贾燕	天津大学材料学院	2	5	2.0	2.0