Si3N4粉体表面分析及偶联剂作用量的选择

• 作者: 司文捷 苗赫濯 颜鲁婷 齐龙浩
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 表面分析 氧化 水解 偶联剂
• 年，卷（期）: 2002,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 973-978
• 页数: 6页
• 分类号: TF122
• 字数: 3058字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2002.05.011

摘要

在Si3N4粉体的生产和存储过程中,氧化和水解是两个不利的因素,但在偶联剂的作用下,它们在提高陶瓷粉体与有机载体的相容性方面起到了促进作用.本文测定了未经处理的Si3N4粉及通过氧化和水解改性的Si3N4粉的表面性质,并分析了它们对偶联剂选择作用量的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	苗赫濯	清华大学材料系新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室	69	997	20.0	27.0
2	司文捷	清华大学材料系新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室	55	652	15.0	23.0
3	颜鲁婷	清华大学材料系新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室	8	107	5.0	8.0
4	齐龙浩	清华大学材料系新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室	31	399	12.0	19.0