亚半微米铬掩模版制作技术研究

• 作者: 刘玉贵 江泽流 王维军 罗四维
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束制版 亚半微米 混合制版 PMMA电子束抗蚀剂 干法刻蚀
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 所属期刊栏目: 显微、测量、微细加工技术与设备
• 页码范围: 43-45
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.6
• 字数: 2467字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2002.02.010

摘要

介绍了用Leica VB5电子束曝光系统在涂敷有PMMA电子束抗蚀剂的4英寸铬板上,通过扫描曝光、湿法显影、干法刻蚀等手段制作亚微米、亚半微米铬掩模版的工艺技术.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	罗四维		3	2	1.0	1.0
2	王维军		3	2	1.0	1.0
3	江泽流		3	2	1.0	1.0
4	刘玉贵		8	15	2.0	3.0