氢促进位错发射和裂纹扩展的三维分子动力学模拟

• 作者: 乔利杰 李忠吉 李金许 褚武扬 高克玮
• 来源期刊: 自然科学进展
• 学科: 工学
• 关键词: Ni 三维分子动力学模拟 氢 位错发射 裂纹扩展
• 年，卷（期）: 2002,（9）
• 所属期刊栏目: 研究简讯
• 页码范围: 1001-1004
• 页数: 4页
• 分类号: TG213
• 字数: 2724字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-008X.2002.09.020

摘要

对纯Ni和Ni+H,用EAM多体势的三维分子动力学模拟表明,不论裂纹取向如何,加载时均是首先发射位错,只有当发射足够多的位错后裂纹才扩展.即使对于氢脆,也以局部塑性变形为先导.对于沿(111)滑移面的位错,氢使位错发射的应力强度因子K Ie 从0.42降为0.36MPa@m 1/2 ;使裂纹开始扩展的临界应力强度因子K IP 从0.8降为0.76MPa@m 1/2 .总之,氢促进裂纹的发射和扩展.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高克玮	北京科技大学材料物理系	110	613	13.0	19.0
2	乔利杰	北京科技大学材料物理系	139	834	15.0	21.0
3	褚武扬	北京科技大学材料物理系	135	889	17.0	22.0
4	李金许	北京科技大学材料物理系	46	323	11.0	15.0
5	李忠吉	北京科技大学材料物理系	3	23	3.0	3.0