新型可溶性亚酞菁旋涂薄膜的光学常数

• 作者: 干福熹 王阳
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 可溶性亚酞菁染料 旋涂薄膜 椭圆偏振光谱 复折射率 复介电函数 吸收系数
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 光学薄膜
• 页码范围: 239-242
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4+1
• 字数: 3336字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2002.03.013

摘要

通过旋涂法在单晶硅片上制备了一种新型可溶性亚酞菁(三新戊氧基溴硼亚酞菁)薄膜.利用全自动椭圆偏振光谱仪研究了该薄膜的椭偏光谱,测量了其复折射率、复介电函数和吸收系数,并对其吸收谱的成因作了分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	干福熹	中国科学院上海光学精密机械研究所	288	2527	23.0	29.0
2	王阳	中国科学院上海光学精密机械研究所	45	111	6.0	7.0