微电子工业中的一种新型激光调修技术

• 作者: 孙继凤
• 来源期刊: 光机电信息
• 学科: 工学
• 年，卷（期）: 2002,（6）
• 所属期刊栏目: 激光应用
• 页码范围: 19-22
• 页数: 4页
• 分类号: TN2
• 字数: 3205字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-1180.2002.06.004

摘要

新型激光调修技术与常规的CMOS处理方法完全兼容.用这种方法既可以调修模拟器件,也可以调修模拟和数字混合的微电子器件.该方法是用一束激光烧熔硅体,使两个p-n结二极管之间形成电连接而产生一个电阻器件.在自动设备系统中,1s内就可生产出这种激光扩散电阻,其阻值范围从100Ω到几MΩ,激光的重复调修过程可使电阻精度达到50ppm.用这种方法也可做出温度系数接近0的电阻.本文主要阐述生产这种电阻的方法、主要器件和有关处理方式的关键点.