微电子与微电子机械系统(MEMS)中的现代光学测试技术

• 作者: 何小元 康新 衡伟 黄庆安
• 来源期刊: 机械强度
• 关键词: 微电子机械系统 微电子 光测力学
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 所属期刊栏目: 微电子机械系统的测试
• 页码范围: 447-451
• 页数: 5页
• 分类号: TH74
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9669.2001.04.011

摘要

介绍了微电子和微电子机械系统(MEMS)中几种常用的变形和形貌测量方法以及相关的测量设备.其中相移云纹干涉技术用于微电子器件的面内位移测量,灵敏度可达到纳米量级.显微栅线投影技术用于MEMS的离面变形和形貌测量,灵敏度可达0.1微米.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	衡伟		22	154	7.0	12.0
2	何小元		104	1108	17.0	27.0
3	黄庆安		35	415	12.0	19.0
4	康新		9	187	7.0	9.0