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摘要:
【正】 Y2002-63234-11 0224630铜-化学机械抛光工艺用清洁室设计=Cleanroom de-sign for Cu-CMP processes[会,英]/Ishiguro,T.& Ro,T.//2001 IEEE International Symposium on Semicon-ductor Manufacturing.—11~14(E)Y2002-63234-71 0224631半导体制造中工艺过程分析动态模拟器=Dynamicsimulator for WIP analysis in semiconductor manulactur-ing[会,英]/Collins,D.W.& Lakshrnan//2001 IEEE
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文献信息
篇名 电子工艺
来源期刊 电子科技文摘 学科 工学
关键词 电子工艺 化学机械抛光 半导体制造 工艺过程 ductor 沟道效应 虚拟制造技术 焊球 半导体工艺 封装器件
年,卷(期) dzkjwz_2002,(12) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 21-22
页数 2页 分类号 TN02
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研究主题发展历程
节点文献
电子工艺
化学机械抛光
半导体制造
工艺过程
ductor
沟道效应
虚拟制造技术
焊球
半导体工艺
封装器件
研究起点
研究来源
研究分支
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子科技文摘
月刊
1009-0851
11-4388/TN
16开
1999
chi
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10413
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1
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