厚度小于100nm的Tl2Ba2CaCu2Ox高温超导薄膜

• 作者: 何明 周铁戈 方兰 王建伟 贾颖新 赵新杰 路昕 路荣涛 阎少林 马永昌
• 来源期刊: 低温物理学报
• 学科: 工学
• 年，卷（期）: 2003,（z2）
• 页码范围: 551-555
• 页数: 5页
• 分类号: TM26
• 字数: 2564字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-3258.2003.z2.050

摘要

采用直流磁控溅射和在纯氩气中后热处理的方法,在LaAlO3(001)衬底上生长出厚度小于100nm的Tl2Ba2CaCu2Ox(Tl-2212)超导薄膜.在77K和零磁场下,100nm厚的薄膜具有105.3K的超导转变温度和2.33×106A/cm2的临界电流密度.这些值与较厚的Tl-2212薄膜的最好值相符.30nm厚的薄膜仍具有大于100K的转变温度,并具有光滑致密的表面形貌和外延生长的晶体结构.20nm厚的薄膜仍显示出正常态的金属行为和充分的超导转变.当厚度小于20nm时,薄膜的表面形貌和超导电性明显变坏,6nm厚的薄膜在15K低温下,未发现超导转变.从这个意义上看,20nm为我们所研究的Tl-2212薄膜的临界厚度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周铁戈	南开大学电子科学系	44	100	5.0	7.0
2	赵新杰	南开大学电子科学系	52	116	6.0	7.0
3	方兰	南开大学电子科学系	47	115	6.0	6.0
4	路昕	南开大学电子科学系	4	2	1.0	1.0
5	何明	南开大学电子科学系	43	86	5.0	6.0
6	马永昌	南开大学电子科学系	3	7	2.0	2.0
7	路荣涛	南开大学电子科学系	6	10	2.0	3.0
8	王建伟	南开大学电子科学系	2	5	1.0	2.0
9	贾颖新	南开大学电子科学系	3	10	2.0	3.0
10	阎少林		2	1	1.0	1.0