用双光束激发改进纳米Si3N4激光合成工艺

• 作者: 李道火 浦坦 王锐 罗丽明 黄永攀
• 来源期刊: 光电子技术与信息
• 学科: 化学
• 关键词: 激光诱导化学气相沉积 纳米Si3N4 双光束激发
• 年，卷（期）: 2003,（3）
• 所属期刊栏目: 材料与元器件
• 页码范围: 25-27
• 页数: 3页
• 分类号: O644.18|TQ127.2
• 字数: 2077字
• 语种: 中文

摘要

氮化硅(Si3N4)是优良的陶瓷材料,应用十分广泛.本文论述了激光诱导化学气相沉积法制备纳米Si3N4的工作原理,提出了减少游离硅的措施,采用双光束激发制备得到了超微的、非晶纳米Si3N4粉体.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王锐	中国科学院安徽光学精密机械研究所	53	317	11.0	15.0
5	黄永攀	中国科学院安徽光学精密机械研究所	14	82	6.0	8.0
9	罗丽明	中国科学院安徽光学精密机械研究所	10	74	5.0	8.0
10	浦坦	中国科学院安徽光学精密机械研究所	11	129	7.0	11.0
11	李道火	中国科学院安徽光学精密机械研究所	25	254	10.0	15.0