CH薄膜非平衡辐射烧蚀的特性

• 作者: 冯庭桂 张利发 曾先才 李沄生 李蒙 盛家田 高耀明
• 来源期刊: 中国工程物理研究院科技年报
• 学科: 物理学
• 关键词: CH薄膜 非平衡辐射烧蚀 辐射输运流体力学 数值模拟 黑腔辐射场
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 页码范围: 105
• 页数: 1页
• 分类号: O484.41

摘要

用一维多群辐射输运流体力学RDMG程序数值模拟研究了非平衡辐射烧蚀CH薄膜的特性和规律。在数值模拟时，分别选取由神光Ⅱ实验给出的黑腔辐射场不同时刻的谱分布和等效辐射温度TR随时间变化的曲线，由TR(t)=(4R(t)／ac)^1/4，其中，c是光速，a=4σ/c=7．57×10^-15erg／(cm^3·K^4)，σ是斯特藩-波尔兹曼常数。)给出每时刻相应的辐射流FR，然后以5个时刻的谱为基准进行插值，给出相应时刻的非平衡烧蚀驱动能源的辐射流谱。