电离层薄层倾斜带来的电离层附加时延偏差分析

• 作者: 吴礼燕 王一举
• 来源期刊: 广西民族学院学报(自然科学版)
• 学科: 工学
• 关键词: 电离层倾斜 附加时延 数值模拟
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 物理学研究
• 页码范围: 16-18
• 页数: 3页
• 分类号: TN011.2
• 字数: 1240字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-8462.2003.01.005

摘要

在考虑电离层薄层倾斜的基础上,数值模拟、分析了电离层倾斜带来的电离层附加时延相对不考虑电离层倾斜的偏差,从而说明了在电离层倾斜地区消除电离层倾斜的必要性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴礼燕	广西民族学院物理与电子工程系	12	17	3.0	3.0
2	王一举	荆州师范学院计算机科学与技术系	5	10	2.0	3.0