TiN附着膜的应力-应变关系

• 作者: 嵇宁 李家宝 汪伟 覃明 陈昌荣 马胜利
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: TiN膜 双轴应力 应力-应变关系 X射线拉伸实验 纳米压痕法
• 年，卷（期）: 2003,（7）
• 页码范围: 721-724
• 页数: 4页
• 分类号: TG113.25|TG115.222|O484.2
• 字数: 2587字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0412-1961.2003.07.009

摘要

利用等离子体辅助化学气相沉积法(PACVD)在60Mn钢基片上沉积2.5μm厚的TiN膜．借助X射线应力分析技术和微拉伸设备，测量该附着膜纵向(加载方向)应力和横向应力及外载应变，进而求其等效应力-等效单轴应变关系，并由此算得它的条件屈服点σ(0.1)和σ(0.2)分别为4.2和4.4 GPa，加工硬化指数为0.36．用纳米压痕仪测得其硬度为25 GPa，弹性模量为420 GPa．TiN膜在拉伸过程中发生了塑性变形．