光学材料微缺陷引起的损伤机理及后处理

• 作者: 侯晶 周礼书 柴立群 胡建平 许乔
• 来源期刊: 中国工程物理研究院科技年报
• 学科: 工学
• 关键词: 光学材料 时域有限差分 表面微缺陷 电磁场分布 损伤处理
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 页码范围: 268-269
• 页数: 2页
• 分类号: TN213

摘要

时域有限差分方法(FDTD)作为一种数值计算方法多用于对导体材料的电磁场分布计算，本研究采用此方法对光学材料表面微缺陷(结瘤、刮痕等)作了二维电磁场分析，对亚表面缺陷(气泡、杂质等)作了三维电磁场分析。计算数据分析表明：光学材料表面及亚表面微缺陷的存在，会造成缺陷附近局部区域的场强增强，使得这些部分容易发生雪崩电离等激光损伤，且不同的缺陷形态、位置和入射光的偏振态均会使局部场强增强的大小和分布不同。图1为光学元件表面有一截面的半圆形长刮痕，TM波不同角度入射时的二维电磁场模拟计算结果。对于衍射光学元件的周期性结构，也尝试用FDTD法进行了模拟计算，为多层介质膜镀制的工艺研究提供了理论基础。总之通过本研究的场强分布计算，