Al／Zr-V／Mo多层膜的XPS分析

• 作者: 张小红 彭述明 王海峰
• 来源期刊: 中国工程物理研究院科技年报
• 学科: 物理学
• 关键词: 铝 锆 钒 钼 多层膜 XPS 物理气相沉积 生长工艺
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 页码范围: 497-498
• 页数: 2页
• 分类号: O484.1

摘要

采用电阻蒸镀的方法将单一C15相ZrV2合金蒸发，经物理气相沉积在Mo底衬上沉积一层厚度约5μm的Zr-V／Mo膜。再将高纯铝(纯度大于99．99％)蒸发至Zr-V/Mo膜表面，从而制备出Al／Zr-V/Mo多层膜。