原文服务方: 原子能科学技术       
摘要:
利用X射线光电子谱仪(XPS)分析和Ar+刻蚀相结合的方法,分析了Ti膜表面的化学元素及相应原子的电子结合能.分析结果表明:Ti膜及膜材料样品表面有大量的C、O元素;膜表面存在从衬底扩散至Ti膜的Mo元素.对样品刻蚀后Ti 2p的XPS谱进行拟合表明:Ti膜表面的Ti由TiO2(约100%)和单质Ti组成,随刻蚀时间的增加,部分TiO2还原至低价Ti;薄的薄膜表面中的Mo由单质Mo和MoO3组成,而厚的薄膜以单质Mo为主;表面C由石墨态和结合能为288.2~288.9 eV的碳化物组成.
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文献信息
篇名 Ti/Mo膜的X射线光电子能谱分析
来源期刊 原子能科学技术 学科
关键词 Ti膜 X射线光电子谱仪 离子刻蚀 结合能
年,卷(期) 2002,(4) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 384-387
页数 4页 分类号 O484.5
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-6931.2002.04.025
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 龙兴贵 中国工程物理研究院核物理与化学研究所 123 496 10.0 16.0
2 刘锦华 中国工程物理研究院核物理与化学研究所 8 12 3.0 3.0
3 牟方明 中国工程物理研究院核物理与化学研究所 3 4 1.0 2.0
4 涂兵 中国工程物理研究院核物理与化学研究所 1 4 1.0 1.0
5 姚冰 中国工程物理研究院核物理与化学研究所 1 4 1.0 1.0
传播情况
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2012(1)
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研究主题发展历程
节点文献
Ti膜
X射线光电子谱仪
离子刻蚀
结合能
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
原子能科学技术
月刊
1000-6931
11-2044/TL
大16开
北京275信箱65分箱
1959-01-01
中文
出版文献量(篇)
7198
总下载数(次)
0
总被引数(次)
27955
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