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摘要:
从IC生产线晶圆片旋转冲洗甩干工艺出发,介绍了半导体晶圆片清洗后的旋转冲洗甩干方法,以及新近开发研制的CXS系列旋转冲洗甩干机的技术原理、结构特点及工艺应用情况.
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文献信息
篇名 IC生产线晶圆片冲洗甩干设备的开发和应用
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 晶圆片 旋转冲洗 甩干 CXS系列
年,卷(期) 2004,(3) 所属期刊栏目 先进工艺设备技术
研究方向 页码范围 64-68
页数 5页 分类号 TN305.97
字数 3624字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-4507.2004.03.019
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研究主题发展历程
节点文献
晶圆片
旋转冲洗
甩干
CXS系列
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
出版文献量(篇)
3731
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31
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10002
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