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摘要:
以作者多年的工作体会为基础,结合几种照明曝光系统的情况,介绍了提高光刻机的照明均匀性和单位面积能量的一些具体措施.并以光学均匀器为例,做出一种可实用的照明曝光系统.
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文献信息
篇名 一种可实用的照明曝光系统
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 照明均匀性 单位面积能量 光学均匀器
年,卷(期) 2004,(2) 所属期刊栏目 专题报道(光刻技术与设备)
研究方向 页码范围 19-24
页数 6页 分类号 TN305.7
字数 6325字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-4507.2004.02.005
五维指标
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照明均匀性
单位面积能量
光学均匀器
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期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
出版文献量(篇)
3731
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31
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