柔红霉素在钴离子注入修饰玻碳电极上与DNA相互作用

• 作者: 尚军 李启隆 王静 胡劲波
• 来源期刊: 高等学校化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 柔红霉素 DNA 离子注入 修饰电极 电化学方法
• 年，卷（期）: 2004,（9）
• 页码范围: 1689-1692
• 页数: 4页
• 分类号: O644
• 字数: 2937字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0251-0790.2004.09.021

摘要

用钴离子注入修饰电极研究了柔红霉素与DNA的相互作用.柔红霉素以嵌入方式与DNA发生作用,形成非电活性的结合物.加入DNA后,柔红霉素的电化学行为没有改变,仍为扩散控制.用非线性拟合得到柔红霉素与DNA的结合常数K=1.09×108cm3/mol,结合数s≈4.DNA分子结构中的1个螺旋结合2个柔红霉素.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡劲波	北京师范大学化学系	47	423	13.0	18.0
2	李启隆	北京师范大学化学系	48	405	13.0	17.0
3	王静	北京师范大学化学系	50	300	9.0	16.0
4	尚军	北京师范大学化学系	10	110	6.0	10.0