真空灭弧室瓷壳黄斑的形成机制及消除措施

• 作者: 张志慧 欧宁 赵智忠
• 来源期刊: 高压电器
• 学科: 工学
• 关键词: 真空灭弧室 瓷壳黄斑 烧氢 真空烘烤 氧化铝晶体
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 技术讨论
• 页码范围: 431-432
• 页数: 2页
• 分类号: TM561.2
• 字数: 2197字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1609.2004.06.011

摘要

对黄斑瓷壳和正常瓷壳进行了电性能测试、化学及烧氢烘烤等一系列试验,证明了高压老炼后真空灭弧室瓷壳黄斑的形成是由于氧化铝晶格配位结构的变化引起的,它不影响真空灭弧室的电气性能,而且加热至650℃后即可消除.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵智忠	大连理工大学电气工程与应用电子技术系	25	109	6.0	10.0
3	张志慧		7	5	1.0	2.0
6	欧宁		1	0	0.0	0.0