在AvaC低压渗碳中控制乙炔及其反应产物

• 作者: A.Jurmann K.Niederberger M.Lohrmann W.Gr(a)fen 金华兰
• 来源期刊: 热处理技术与装备
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 33-36
• 页数: 4页
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-4971.2004.05.009

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	金华兰	南昌大学机电学院	21	183	9.0	13.0
2	M.Lohrmann		1	0	0.0	0.0
3	W.Gr(a)fen		1	0	0.0	0.0
4	A.Jurmann		1	0	0.0	0.0
5	K.Niederberger		1	0	0.0	0.0