四氨基镍酞菁在金电极上成膜过程的研究

• 作者: 任春生 夏静芬 应敏 邓杏娣
• 来源期刊: 工业催化
• 学科: 工学
• 关键词: 石英晶体微天平(EQCM) 循环伏安法 四氨基镍酞菁 成膜过程 离子传输 电催化
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 催化剂与载体制备
• 页码范围: 43-49
• 页数: 7页
• 分类号: TQ426.94|TQ035|TQ246
• 字数: 4738字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-1143.2004.03.011

摘要

采用循环伏安法(CV)和石英晶体微天平技术(QCM)对四氨基镍酞菁(NiTAPc)在金电极上的聚合成膜过程进行了研究,讨论了扫描速率、溶剂、支持电解质及单体浓度对其成膜过程的影响,考察了该聚合膜在无单体电解质溶液中的氧化还原行为及稳定性.借助电化学石英晶体微天平(QCM)重点讨论了过程溶液中离子在膜中传输的机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	应敏	东华理工学院应用化学系	30	363	12.0	18.0
5	夏静芬		39	274	9.0	15.0
6	任春生	东华理工学院应用化学系	4	51	4.0	4.0
7	邓杏娣		1	6	1.0	1.0