光刻胶掩膜微细电化学加工参数的试验研究

• 作者: 李嘉珩 范植坚 马保吉
• 来源期刊: 电加工与模具
• 关键词: 光刻胶 微细加工 电化学加工
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 设计·研究
• 页码范围: 17-19
• 页数: 3页
• 字数: 3284字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-279X.2004.06.007

摘要

对光刻胶掩膜微细电化学加工参数进行了试验分析研究,发现光刻胶厚度、开口角度、脉冲电源频率、脉宽及电解液配方对加工质量都有影响,在此基础上提出改善加工质量的可行性方案.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马保吉	西安工业学院机电工程学院	65	684	13.0	24.0
2	范植坚	西安工业学院机电工程学院	60	373	11.0	16.0
3	李嘉珩	西安工业学院机电工程学院	1	36	1.0	1.0