AP-CVD法制备的二氧化钛薄膜结构及亲水性研究

• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 二氧化钛薄膜 AP-CVD 亲水性 TiCl4
• 年，卷（期）: 2004,（z1）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 60-62
• 页数: 3页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2430字
• 语种: 中文

摘要

基于实现在线镀膜的目的,研究了以TiCl4为钛源,用AP-CVD法在玻璃基板上制备TiO2薄膜的工艺.利用扫描电子显微(SEM)技术和X射线衍射(XRD)技术,研究了不同基板反应温度下薄膜的表面形貌和晶体结构,分析了表面形貌和结构对亲水性的影响.结果表明通过改变反应温度可以控制锐钛矿和金红石的相对量,薄膜的亲水性和表面形貌、粗糙度有密切的关系.