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摘要:
设计和制造了适合工业应用的强流金属离子源.离子源的电弧阴、阳电极之间和放电室壁采用永磁体阵列形成导流、屏蔽磁场,改进了电弧的放电特性和提高等离子体密度.离子注入源在加速电压为30kV、50 Hz条件时,平均束流流强约为30mA,调试结果表明附加磁场提高了离子源性能.
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文献信息
篇名 强流磁约束金属离子注入源
来源期刊 核聚变与等离子体物理 学科 工学
关键词 等离子体 离子束 离子源
年,卷(期) 2005,(1) 所属期刊栏目 研究报告
研究方向 页码范围 74-77
页数 4页 分类号 TL62+9.1|O523+.26
字数 2073字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.0254-6086.2005.01.013
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李国卿 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室 58 411 12.0 16.0
2 牟宗信 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室 38 217 10.0 12.0
3 关秉羽 2 9 2.0 2.0
4 龙振湖 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室 4 31 3.0 4.0
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研究主题发展历程
节点文献
等离子体
离子束
离子源
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
核聚变与等离子体物理
季刊
0254-6086
51-1151/TL
大16开
四川成都二环路南三段3号
62-179
1980
chi
出版文献量(篇)
1387
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2
总被引数(次)
5401
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